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ultrapure water machine
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इलेक्ट्रॉनिक कार्यशाला ग्रेड अतिशुद्ध पानी के लिए उच्च शुद्धता आयन एक्सचेंजर
उच्च शुद्धता मिश्रित बेड आयन एक्सचेंजर ≥99.8% विलवणीकरण दर और 15-18.2 MΩ*cm प्रतिरोधकता के साथ इलेक्ट्रॉनिक-ग्रेड अल्ट्राप्योर पानी प्रदान करता है। इसमें अल्ट्रा-उच्च शुद्धता पॉलिशिंग, स्थिर पानी की गुणवत्ता, कॉम्पैक्ट डिजाइन और सेमीकंडक्टर, सर्किट बोर्ड और सटीक इलेक्ट्रॉनिक विनिर्माण के लिए सही आरओ सिस्टम एकीकरण शामिल है।
18.25 एमΩ·सेमी ईडीआई अल्ट्राप्योर जल प्रणाली सेमीकंडक्टर चिप क्लीनिंग रसायन मुक्त सतत संचालन
औद्योगिक ईडीआई अल्ट्राप्योर जल प्रणाली सेमीकंडक्टर चिप सफाई के लिए 18.25MΩ·cm प्रतिरोधकता जल का उत्पादन करती है। इसमें रसायन-मुक्त ईडीआई तकनीक, 99% विलवणीकरण के साथ दो-चरण आरओ, पीएलसी स्वचालन और 5000 एल/एच तक अनुकूलन क्षमता शामिल है। SEMI मानकों के अनुरूप, इसमें UV स्टरलाइज़ेशन और 1 साल की वारंटी शामिल है।
दो चरण आरओ अतिशुद्ध जल उपकरण 99.5% निर्जलीकरण दर कॉस्मेटिक ग्रेड जीएमपी मानक जल वसूली
सौंदर्य प्रसाधन निर्माण के लिए दो-चरण आरओ अल्ट्राप्योर जल उपकरण ≥99.5% अलवणीकरण दर, 1-5μS/सेमी चालकता और जीएमपी-अनुपालक स्वच्छता डिजाइन सुनिश्चित करता है। स्थिर उत्पादन पानी की गुणवत्ता के लिए पीएलसी स्वचालन, 85-90% जल पुनर्प्राप्ति, यूवी स्टरलाइज़ेशन, और 250L/H से 10T/H तक कस्टम प्रवाह दर की सुविधा है।
कस्टम इंडस्ट्रियल आरओ ईडीआई अतिशुद्ध जल प्रणाली उच्च शुद्धता आउटपुट रसायन मुक्त संचालन
कस्टम औद्योगिक आरओ + ईडीआई अल्ट्राप्योर जल उपचार उपकरण उच्च शुद्धता वाले विआयनीकृत पानी (15-18.25MΩ * सेमी) का उत्पादन करने के लिए डबल-स्टेज आरओ निस्पंदन और ईडीआई इलेक्ट्रोडियोनाइजेशन को जोड़ता है। रासायनिक मुक्त संचालन, पीएलसी बुद्धिमान नियंत्रण, पूरी तरह से अनुकूलन क्षमता (250L/H-5000L/H), स्किड-माउंटेड संरचना और औद्योगिक उत्पादन के लिए स्थिर प्रदर्शन की विशेषताएं।
स्किड माउंटेड कॉम्पैक्ट अल्ट्रा शुद्ध जल शोधक 15-18.25MΩ·cm प्रतिरोध EDI निरंतर Deionization नई ऊर्जा बैटरी
नई ऊर्जा बैटरी उत्पादन के लिए स्किड-माउंटेड कॉम्पैक्ट अल्ट्राप्योर जल उपकरण। विशेषताएं प्रीट्रीटमेंट + दो-चरण आरओ + ईडीआई प्रक्रिया, 15-18.25MΩ*cm इलेक्ट्रॉनिक-ग्रेड पानी का उत्पादन। कॉम्पैक्ट प्लग-एंड-प्ले डिज़ाइन, रसायन-मुक्त ईडीआई ऑपरेशन, पीएलसी स्वचालित नियंत्रण और मॉड्यूलर विस्तार क्षमता।
316L स्टेनलेस स्टील सेनेटरी अल्ट्रा शुद्ध पानी के लिए फार्मास्युटिकल ग्रेड कंटेनर
फार्मास्युटिकल अल्ट्रा-शुद्ध पानी के लिए 316L स्टेनलेस स्टील मिश्रित बिस्तर पोत। संक्षारण प्रतिरोध, चिकनी भीतरी दीवार और कोई मृत कोने के साथ स्वच्छता ग्रेड। मिश्रित राल के माध्यम से सूक्ष्म लवण और अशुद्धियों को हटाता है, जिससे 15-18.2 MΩ*cm प्रतिरोधकता प्राप्त होती है। अनुकूलन योग्य प्रवाह 0.5-30m³/h, 1 वर्ष की वारंटी, निर्यात पैकेजिंग।
रसायन मुक्त प्रयोगशाला संचालन के लिए मिनी कॉम्पैक्ट इलेक्ट्रोडायनीकरण ईडीआई प्रणाली
लैब अल्ट्राप्योर जल इकाइयों के लिए मिनी ईडीआई इलेक्ट्रोडायोनाइजेशन प्रणाली। रसायन-मुक्त निरंतर संचालन से स्थिर 15-18.2 MΩ·cm पानी उत्पन्न होता है। कॉम्पैक्ट डिज़ाइन, कम रखरखाव, 95% तक उच्च पुनर्प्राप्ति दर। फार्मास्युटिकल, सेमीकंडक्टर और प्रयोगशाला अनुप्रयोगों के लिए आदर्श।
अल्ट्रा शुद्ध स्वच्छता भंडारण के लिए 316L एसेप्टिक स्टेनलेस स्टील पानी टैंक
अल्ट्राप्योर जल भंडारण के लिए 316L एसेप्टिक स्टेनलेस स्टील वॉटर टैंक, जिसमें मिरर पॉलिशिंग (Ra≤0.8μm), सीमलेस वेल्डिंग और स्टेराइल डिज़ाइन के साथ SUS316L सामग्री शामिल है। ऑनलाइन सीआईपी सफाई, कस्टम क्षमता (0.5-100m³) का समर्थन करता है, और सेमीकंडक्टर, फार्मास्युटिकल और नई ऊर्जा अनुप्रयोगों के लिए जीएमपी/यूएसपी मानकों को पूरा करता है।
इलेक्ट्रॉनिक चिप सफाई के लिए औद्योगिक बड़े प्रवाह उच्च शुद्धता जल प्रणाली 18.25MΩ·Cm
सेमीकंडक्टर फैब्स और इलेक्ट्रॉनिक चिप निर्माण के लिए औद्योगिक बड़े प्रवाह वाली अल्ट्राप्योर जल प्रणाली। इसमें दो-चरण आरओ + ईडीआई + पॉलिशिंग मिश्रित बिस्तर प्रक्रिया है, जो टीओसी ≤1पीपीबी के साथ 18.25MΩ*सेमी अल्ट्राप्योर पानी का उत्पादन करती है। अनुकूलन योग्य प्रवाह 10-100m³/h, पीएलसी स्वचालित नियंत्रण, 24 घंटे निरंतर संचालन। वेफर सफाई, नक़्क़ाशी और चिप उत्पादन के लिए SEMI/ASTM मानकों का अनुपालन करता है।
