Toutes les catégories
ultrapure water machine
11 Items Found
Échangeur d'ions de haute pureté pour l'eau ultrapure de qualité électronique
L'échangeur d'ions à lit mixte de haute pureté fournit de l'eau ultrapure de qualité électronique avec un taux de dessalement ≥ 99,8 % et une résistivité de 15 à 18,2 MΩ*cm. Comprend un polissage de très haute pureté, une qualité d'eau stable, une conception compacte et une intégration parfaite du système RO pour la fabrication de semi-conducteurs, de circuits imprimés et de composants électroniques de précision.
18.25 MΩ·cm EDI Système d'eau ultrapure Système de puces semi-conducteurs Nettoyage continu sans produits chimiques
Le système d'eau ultrapure EDI industriel produit une eau de résistivité de 18,25 MΩ·cm pour le nettoyage des puces semi-conductrices. Doté d'une technologie EDI sans produits chimiques, d'une osmose inverse en deux étapes avec dessalement à 99 %, d'une automatisation PLC et d'une capacité personnalisable jusqu'à 5 000 L/H. Conforme aux normes SEMI, comprend la stérilisation UV et une garantie d'un an.
Récupération d'eau standard de qualité cosmétique de taux de dessalement de l'équipement 99,5% de l'eau ultrapure de RO de RO
L'équipement d'eau ultrapure RO en deux étapes pour la fabrication de cosmétiques garantit un taux de dessalement ≥ 99,5 %, une conductivité de 1 à 5 μS/cm et une conception sanitaire conforme aux BPF. Comprend une automatisation PLC, une récupération d'eau de 85 à 90 %, une stérilisation UV et des débits personnalisés de 250 L/H à 10 T/H pour une qualité d'eau de production stable.
Opération libre chimique de sortie de grande pureté industrielle faite sur commande de système d'eau de RO EDI
L'équipement industriel personnalisé de traitement de l'eau ultrapure RO+EDI combine une filtration RO en deux étapes et une électrodéionisation EDI pour produire de l'eau désionisée de haute pureté (15-18,25 MΩ*cm). Comprend un fonctionnement sans produits chimiques, un contrôle intelligent PLC, une capacité entièrement personnalisable (250 L/H-5 000 L/H), une structure montée sur patins et des performances stables pour la production industrielle.
Purificateur d'eau ultra pur compact monté sur skid 15-18.25MΩ·cm Résistivité EDI Désionisation continue Batterie à énergie nouvelle
Équipement compact à eau ultra pure monté sur patins pour la production de batteries à énergie nouvelle. Comprend un prétraitement + un processus RO + EDI en deux étapes, produisant 15-18,25 MΩ*cm d'eau de qualité électronique. Conception compacte plug-and-play, fonctionnement EDI sans produits chimiques, contrôle automatique PLC et capacité d'extension modulaire.
316L Vaisseau de qualité pharmaceutique en acier inoxydable pour l'eau ultrapure sanitaire
Cuve à lit mixte en acier inoxydable 316L pour eau ultra-pure pharmaceutique. Qualité sanitaire avec résistance à la corrosion, paroi intérieure lisse et sans coins morts. Élimine les traces de sels et les impuretés via une résine mixte, atteignant une résistivité de 15 à 18,2 MΩ*cm. Débit personnalisable 0,5-30m³/h, garantie 1 an, emballage export.
Mini système EDI d'électrodéionisation compact pour un fonctionnement en laboratoire sans produits chimiques
Mini système d'électrodéionisation EDI pour les unités d'eau ultra pure de laboratoire. Un fonctionnement continu sans produits chimiques produit une eau stable de 15 à 18,2 MΩ·cm. Conception compacte, faible maintenance, taux de récupération élevé jusqu'à 95 %. Idéal pour les applications pharmaceutiques, de semi-conducteurs et de laboratoire.
Réservoir d'eau aseptique en acier inoxydable 316L pour le stockage sanitaire ultrapur
Réservoir d'eau aseptique en acier inoxydable 316L pour le stockage d'eau ultrapure, doté d'un matériau SUS316L avec polissage miroir (Ra≤0,8 μm), soudage sans soudure et conception stérile. Prend en charge le nettoyage CIP en ligne, les capacités personnalisées (0,5 à 100 m³) et répond aux normes GMP/USP pour les applications de semi-conducteurs, pharmaceutiques et de nouvelles énergies.
Système industriel d'eau de haute pureté à grand débit 18,25 MΩ·Cm Pour le nettoyage de puces électroniques
Système industriel d’eau ultrapure à grand débit pour les usines de semi-conducteurs et la fabrication de puces électroniques. Comprend un processus de lit mélangé RO + EDI + polissage en deux étapes, produisant 18,25 MΩ*cm d'eau ultra pure avec un COT ≤ 1 ppb. Débit personnalisable 10-100m³/h, contrôle automatisé PLC, fonctionnement continu 24h/24. Conforme aux normes SEMI/ASTM pour le nettoyage, la gravure et la production de plaquettes.
