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ultrapure water machine
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Hochreines Ionenwechsler für Elektro-Werkstatt-Ultrareinwasser
Der hochreine Mischbett-Ionenaustauscher liefert hochreines Wasser in elektronischer Qualität mit einer Entsalzungsrate von ≥99,8 % und einem spezifischen Widerstand von 15–18,2 MΩ*cm. Bietet ultrahochreines Polieren, stabile Wasserqualität, kompaktes Design und perfekte RO-Systemintegration für die Halbleiter-, Leiterplatten- und Präzisionselektronikfertigung.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb
Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.
Zwei Stufen RO Ultrareine Wasseranlage 99,5% Entsalzungsrate Kosmetikqualität GMP Standardwasserrückgewinnung
Zweistufige RO-Reinstwasseranlagen für die Kosmetikherstellung gewährleisten eine Entsalzungsrate von ≥99,5 %, eine Leitfähigkeit von 1–5 μS/cm und ein GMP-konformes Sanitärdesign. Verfügt über SPS-Automatisierung, 85–90 % Wasserrückgewinnung, UV-Sterilisation und individuelle Durchflussraten von 250 l/h bis 10 t/h für eine stabile Produktionswasserqualität.
Gewerblich angepasste RO EDI Ultrareines Wassersystem Hohe Reinheit Ausgang Chemikalienfreier Betrieb
Kundenspezifische industrielle RO+EDI-Reinstwasseraufbereitungsanlagen kombinieren zweistufige RO-Filtration und EDI-Elektroentionisierung, um hochreines entionisiertes Wasser (15–18,25 MΩ*cm) zu erzeugen. Verfügt über einen chemikalienfreien Betrieb, eine intelligente SPS-Steuerung, eine vollständig anpassbare Kapazität (250 l/h bis 5000 l/h), eine auf Kufen montierte Struktur und eine stabile Leistung für die industrielle Produktion.
Auf einem Gestell montierter, kompakter Reinstwasserreiniger, 15–18,25 MΩ·cm spezifischer Widerstand, EDI, kontinuierliche Entionisierung, neue Energiebatterie
Auf einem Rahmen montierte, kompakte Reinstwasseranlage für die Produktion neuer Energiebatterien. Verfügt über Vorbehandlung + zweistufiges RO + EDI-Verfahren zur Erzeugung von Wasser in elektronischer Qualität mit 15–18,25 MΩ*cm. Kompaktes Plug-and-Play-Design, chemiefreier EDI-Betrieb, automatische SPS-Steuerung und modulare Erweiterungsfähigkeit.
316L Farbstoffbehälter aus Edelstahl für Ultrareinwasser
Mischbettbehälter aus Edelstahl 316L für pharmazeutisches Reinstwasser. Sanitärqualität mit Korrosionsbeständigkeit, glatter Innenwand und ohne tote Ecken. Entfernt Spuren von Salzen und Verunreinigungen über das Mischharz und erreicht einen spezifischen Widerstand von 15–18,2 MΩ*cm. Anpassbarer Durchfluss 0,5–30 m³/h, 1 Jahr Garantie, Exportverpackung.
Mini-kompakte Elektrodeionisierung EDI-System für chemiefreien Laborbetrieb
Mini-EDI-Elektroentionisierungssystem für Labor-Reinstwassereinheiten. Der chemikalienfreie Dauerbetrieb erzeugt stabiles Wasser mit 15–18,2 MΩ·cm. Kompaktes Design, geringer Wartungsaufwand, hohe Rückgewinnungsrate von bis zu 95 %. Ideal für Pharma-, Halbleiter- und Laboranwendungen.
316L aseptischer Wasserbehälter aus Edelstahl für die ultrareine Sanitärlagerung
Aseptischer Wassertank aus 316L-Edelstahl für die Lagerung von Reinstwasser, bestehend aus SUS316L-Material mit Hochglanzpolitur (Ra≤0,8μm), nahtloser Schweißung und sterilem Design. Unterstützt Online-CIP-Reinigung, kundenspezifische Kapazitäten (0,5–100 m³) und erfüllt GMP/USP-Standards für Halbleiter-, Pharma- und neue Energieanwendungen.
Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips
Industrielles Reinstwassersystem mit großem Durchfluss für Halbleiterfabriken und die Herstellung elektronischer Chips. Verfügt über einen zweistufigen RO + EDI + Polier-Mischbettprozess, der 18,25 MΩ*cm hochreines Wasser mit einem TOC ≤1 ppb erzeugt. Anpassbarer Durchfluss 10–100 m³/h, automatisierte SPS-Steuerung, 24-Stunden-Dauerbetrieb. Entspricht den SEMI/ASTM-Standards für Waferreinigung, Ätzen und Chipproduktion.
