Все категории
ultrapure water machine
11 Items Found
Ионообменник высокой чистоты для ультрачистой воды класса электронной мастерской
Ионообменник смешанного действия высокой чистоты обеспечивает сверхчистую воду электронного класса со степенью опреснения ≥99,8% и удельным сопротивлением 15–18,2 МОм*см. Отличается полировкой сверхвысокой чистоты, стабильным качеством воды, компактным дизайном и идеальной интеграцией системы обратного осмоса для производства полупроводников, печатных плат и прецизионной электроники.
18.25 MΩ·cm EDI Ультрачистая система водоснабжения Полупроводниковые чипы Чистка химикатов Бесперебойная работа
Промышленная система сверхчистой воды EDI производит воду с удельным сопротивлением 18,25 МОм·см для очистки полупроводниковых чипов. Имеет безхимическую технологию EDI, двухступенчатый RO с опреснением 99%, автоматизацию ПЛК и настраиваемую производительность до 5000 л/ч. Соответствует стандартам SEMI, включает УФ-стерилизацию и гарантию 1 год.
Два этапа ОР Ультрачистое водоснабжение 99,5% Уровень опреснения Косметический уровень GMP Стандартный водосбор
Двухступенчатое оборудование для сверхчистой воды обратного осмоса для производства косметики обеспечивает степень опреснения ≥99,5%, проводимость 1-5 мкСм/см и санитарное исполнение, соответствующее требованиям GMP. Имеет автоматизацию ПЛК, 85-90% рекуперацию воды, УФ-стерилизацию и настраиваемую скорость потока от 250 л/ч до 10 т/ч для стабильного качества производственной воды.
Промышленная RO EDI Ультрачистая система водоснабжения Высокая чистота Выход без химических веществ
Изготовленное на заказ промышленное оборудование для очистки сверхчистой воды RO+EDI сочетает в себе двухступенчатую RO-фильтрацию и электродионизацию EDI для производства деионизированной воды высокой чистоты (15-18,25 МОм*см). Отличается работой без химикатов, интеллектуальным управлением ПЛК, полностью настраиваемой производительностью (250 л/ч-5000 л/ч), смонтированной на раме конструкцией и стабильной производительностью для промышленного производства.
Скид монтированный компактный ультрачистый очиститель воды 15-18.25 МΩ·см Сопротивляемость EDI непрерывная деионизация Новая энергетическая батарея
Компактное оборудование для сверхчистой воды, смонтированное на раме, для производства новых энергетических батарей. Имеет предварительную обработку + двухступенчатый процесс RO + EDI, производящий воду электронного качества с сопротивлением 15–18,25 МОм*см. Компактная конструкция plug-and-play, работа EDI без использования химикатов, автоматическое управление ПЛК и возможность модульного расширения.
316L Нержавеющая сталь для санитарной сверхчистой воды
Емкость смешанного слоя из нержавеющей стали 316L для фармацевтической сверхчистой воды. Санитарный класс, устойчивый к коррозии, гладкая внутренняя стенка и отсутствие мертвых углов. Удаляет следы солей и примесей через смешанную смолу, достигая удельного сопротивления 15-18,2 МОм*см. Настраиваемый расход 0,5-30 м³/ч, гарантия 1 год, экспортная упаковка.
Мини компактная электродионизационная система EDI для химически свободной лабораторной работы
Система электродеионизации Mini EDI для лабораторных установок сверхчистой воды. Непрерывная работа без использования химикатов позволяет получить стабильную воду с сопротивлением 15-18,2 МОм·см. Компактная конструкция, низкие эксплуатационные расходы, высокая степень восстановления до 95%. Идеально подходит для фармацевтического, полупроводникового и лабораторного применения.
316L Асептический резервуар с водой из нержавеющей стали для сверхчистого санитарного хранения
Резервуар для воды из асептической нержавеющей стали 316L для хранения сверхчистой воды из материала SUS316L с зеркальной полировкой (Ra≤0,8 мкм), бесшовной сваркой и стерильной конструкцией. Поддерживает онлайн-мойку CIP, нестандартную емкость (0,5–100 м³) и соответствует стандартам GMP/USP для полупроводниковой, фармацевтической и новой энергетики.
Промышленная система водоснабжения высокой чистоты с большим потоком 18,25 МΩ·См для очистки электронных чипов
Промышленная крупнопоточная система сверхчистой воды для заводов по производству полупроводников и производства электронных чипов. Имеет двухэтапный процесс RO + EDI + полировки в смешанном слое, производящий сверхчистую воду с сопротивлением 18,25 МОм*см и TOC ≤1ppb. Настраиваемый расход 10-100 м³/ч, автоматическое управление ПЛК, непрерывная работа 24 часа. Соответствует стандартам SEMI/ASTM по очистке пластин, травлению и производству чипов.
