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ultrapure water machine
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Scambiatore di ioni ad alta purezza per acqua ultrapura di grado laboratorio elettronico
Lo scambiatore ionico a letto misto ad elevata purezza fornisce acqua ultrapura di grado elettronico con un tasso di desalinizzazione ≥99,8% e una resistività di 15-18,2 MΩ*cm. Presenta lucidatura ad altissima purezza, qualità dell'acqua stabile, design compatto e perfetta integrazione del sistema RO per semiconduttori, circuiti stampati e produzione elettronica di precisione.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema idrico ultrapuro
Il sistema di acqua ultrapura EDI industriale produce acqua con resistività di 18,25 MΩ·cm per la pulizia dei chip semiconduttori. Presenta tecnologia EDI priva di sostanze chimiche, RO a due stadi con desalinizzazione al 99%, automazione PLC e capacità personalizzabile fino a 5000 L/H. Conforme agli standard SEMI, include sterilizzazione UV e garanzia di 1 anno.
Attrezzature per l'acqua ultrapura a due fasi RO Tasso di desalinizzazione 99,5% Grado cosmetico GMP Recupero standard dell'acqua
L'attrezzatura per acqua ultrapura RO a due stadi per la produzione di cosmetici garantisce un tasso di desalinizzazione ≥99,5%, conduttività di 1-5μS/cm e design sanitario conforme a GMP. Dispone di automazione PLC, recupero dell'acqua dell'85-90%, sterilizzazione UV e portate personalizzate da 250 L/H a 10 T/H per una qualità dell'acqua di produzione stabile.
Sistema idrico ad alta purezza di uscita senza prodotti chimici
Le apparecchiature industriali personalizzate per il trattamento dell'acqua ultrapura RO+EDI combinano la filtrazione RO a doppio stadio e l'elettrodeionizzazione EDI per produrre acqua deionizzata di elevata purezza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta funzionamento senza sostanze chimiche, controllo intelligente PLC, capacità completamente personalizzabile (250 L/H-5000 L/H), struttura montata su skid e prestazioni stabili per la produzione industriale.
Purificatore d'acqua compatto e ultrapuro 15-18.25MΩ·cm Resistività EDI Deionizzazione continua Batteria di nuova energia
Attrezzatura compatta per acqua ultrapura montata su skid per la produzione di batterie di nuova energia. Presenta pretrattamento + processo RO + EDI a due stadi, producendo acqua di grado elettronico da 15-18,25 MΩ*cm. Design compatto plug-and-play, funzionamento EDI senza sostanze chimiche, controllo automatico PLC e capacità di espansione modulare.
Recipiente di grado farmaceutico in acciaio inossidabile 316L per acqua ultrapura sanitaria
Recipiente a letto misto in acciaio inossidabile 316L per acqua ultrapura farmaceutica. Grado sanitario con resistenza alla corrosione, parete interna liscia e senza angoli morti. Rimuove tracce di sali e impurità tramite resina mista, raggiungendo una resistività di 15-18,2 MΩ*cm. Portata personalizzabile 0,5-30m³/h, 1 anno di garanzia, imballaggio per esportazione.
Mini sistema EDI di elettrodeionizzazione compatto per il funzionamento di laboratorio privo di sostanze chimiche
Sistema di elettrodeionizzazione Mini EDI per unità di acqua ultrapura da laboratorio. Il funzionamento continuo senza sostanze chimiche produce acqua stabile da 15-18,2 MΩ·cm. Design compatto, manutenzione ridotta, tasso di recupero elevato fino al 95%. Ideale per applicazioni farmaceutiche, semiconduttori e di laboratorio.
Serbatoio dell'acqua asettico in acciaio inossidabile 316L per stoccaggio sanitario ultrapuro
Serbatoio dell'acqua asettico in acciaio inossidabile 316L per lo stoccaggio di acqua ultrapura, caratterizzato da materiale SUS316L con lucidatura a specchio (Ra≤0,8μm), saldatura senza giunzioni e design sterile. Supporta la pulizia CIP online, capacità personalizzate (0,5-100 m³) e soddisfa gli standard GMP/USP per applicazioni di semiconduttori, farmaceutiche e nuove energie.
Sistema idrico industriale ad alto flusso di alta purezza 18,25MΩ·Cm Per la pulizia dei chip elettronici
Sistema industriale per acqua ultrapura a grande flusso per fabbriche di semiconduttori e produzione di chip elettronici. Presenta un processo a letto misto RO + EDI + lucidatura a due stadi, che produce acqua ultrapura da 18,25 MΩ*cm con TOC ≤ 1 ppb. Portata personalizzabile 10-100m³/h, controllo automatizzato PLC, funzionamento continuo 24 ore su 24. Conforme agli standard SEMI/ASTM per la pulizia, l'incisione e la produzione di chip dei wafer.
