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ro water treatment system
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Rifiuto del sale di controllo del PLC del sistema di dissalazione del RO dell'acciaio inossidabile 304 316 per il trattamento delle acque industriali
Apparecchiature di desalinizzazione RO monostadio per il trattamento dell'acqua circolante in fabbrica. Presenta struttura in acciaio inossidabile, automazione PLC, tasso di recupero del 45-55% e rifiuto del sale ≥99%. Il design compatto montato su skid consente di risparmiare spazio e ridurre il consumo di acqua.
Modulo fotovoltaico Sistema di depurazione dell'acqua 18,2 MΩ·cm Due fasi RO EDI Process PLC Control
Apparecchiatura fotovoltaica per acqua ultrapura con purezza di 18,2 MΩ·cm, RO + EDI a doppio stadio + processo di lucidatura a letto misto. Dispone di controllo touch screen PLC, tasso di desalinizzazione ≥99%, portata di 80 m³/h e controllo specializzato di silicio/boro/TOC per i processi di incisione, testurizzazione e pulizia dei wafer delle celle solari.
Prodotti farmaceutici per acqua sterile ultrapura Equipaggiamento per sterilizzazione UV Dispositivo per il controllo a basso TOC Conformità ai GMP
Attrezzatura farmaceutica sterile per acqua ultrapura con dispositivo di sterilizzazione UV. Dispone di serbatoio sterile da 316 litri, purificazione RO+EDI, sterilizzazione UV, pulizia CIP e conformità GMP/USP/EP. Fornisce resistività stabile di 15-18,25 MΩ*cm, TOC basso, zero batteri per iniezione, prodotti biologici e produzione farmaceutica.
Covo misto a rigenerazione automatica per acqua di alimentazione della caldaia
Letto misto a rigenerazione automatica per la depurazione profonda dell'acqua di alimentazione delle caldaie. Presenta rigenerazione del ciclo automatico, rimozione profonda della durezza e dei sali residui, uscita dell'acqua stabile e struttura anticorrosione industriale. Ideale per locali caldaie industriali e centrali termiche.
Sistema idrico ad alta purezza di uscita senza prodotti chimici
Le apparecchiature industriali personalizzate per il trattamento dell'acqua ultrapura RO+EDI combinano la filtrazione RO a doppio stadio e l'elettrodeionizzazione EDI per produrre acqua deionizzata di elevata purezza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta funzionamento senza sostanze chimiche, controllo intelligente PLC, capacità completamente personalizzabile (250 L/H-5000 L/H), struttura montata su skid e prestazioni stabili per la produzione industriale.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema idrico ultrapuro
Il sistema di acqua ultrapura EDI industriale produce acqua con resistività di 18,25 MΩ·cm per la pulizia dei chip semiconduttori. Presenta tecnologia EDI priva di sostanze chimiche, RO a due stadi con desalinizzazione al 99%, automazione PLC e capacità personalizzabile fino a 5000 L/H. Conforme agli standard SEMI, include sterilizzazione UV e garanzia di 1 anno.
RO Sistema EDI di elettrodeionizzazione post lucidatura con funzionamento continuo senza sostanze chimiche
Il sistema EDI post-lucidatura RO sostituisce i tradizionali letti misti con un funzionamento continuo privo di sostanze chimiche, un'erogazione stabile di acqua ad elevata purezza e un'automazione completamente non presidiata. Dispone di certificazioni ISO 9001 e CE, struttura integrata compatta e supporta un flusso personalizzabile da 0,5-50 m³/h per gli aggiornamenti del sistema idrico industriale.
Scambiatore di ioni ad alta purezza per acqua ultrapura di grado laboratorio elettronico
Lo scambiatore ionico a letto misto ad elevata purezza fornisce acqua ultrapura di grado elettronico con un tasso di desalinizzazione ≥99,8% e una resistività di 15-18,2 MΩ*cm. Presenta lucidatura ad altissima purezza, qualità dell'acqua stabile, design compatto e perfetta integrazione del sistema RO per semiconduttori, circuiti stampati e produzione elettronica di precisione.
Sistema idrico industriale ad alto flusso di alta purezza 18,25MΩ·Cm Per la pulizia dei chip elettronici
Sistema industriale per acqua ultrapura a grande flusso per fabbriche di semiconduttori e produzione di chip elettronici. Presenta un processo a letto misto RO + EDI + lucidatura a due stadi, che produce acqua ultrapura da 18,25 MΩ*cm con TOC ≤ 1 ppb. Portata personalizzabile 10-100m³/h, controllo automatizzato PLC, funzionamento continuo 24 ore su 24. Conforme agli standard SEMI/ASTM per la pulizia, l'incisione e la produzione di chip dei wafer.
