Alle Categorieën
ro water treatment system
68 Items Found
Roestvrij staal 304 316 RO Ontziltingssysteem PLC-controle Zoutverwijdering voor industriële waterzuivering
Eentraps RO-ontziltingsapparatuur voor circulatiewaterbehandeling in de fabriek. Beschikt over een roestvrijstalen constructie, PLC-automatisering, een terugwinningspercentage van 45-55% en een zoutafwijzing van ≥99%. Het compacte, op een skid gemonteerde ontwerp bespaart ruimte en vermindert het waterverbruik.
Photovoltaïsche module waterzuiveringssysteem 18,2 MΩ·cm Twee-stap RO EDI Process PLC Control
Fotovoltaïsche apparatuur voor ultrapuur water met een zuiverheid van 18,2MΩ·cm, tweetraps RO + EDI + polijstproces met gemengd bed. Beschikt over PLC-aanraakschermbediening, ontziltingssnelheid ≥99%, debiet van 80 m³/u en gespecialiseerde regeling van silicium/boor/TOC voor het etsen, textureren en reinigen van zonnecelwafels.
Farmaceutische steriele ultrazuivere waterapparatuur UV-sterilisatieapparaat Low TOC Control GMP-naleving
Farmaceutische steriele apparatuur voor ultrapuur water met UV-sterilisatieapparaat. Beschikt over een steriele tank van 316 liter, RO+EDI-zuivering, UV-sterilisatie, CIP-reiniging en GMP/USP/EP-naleving. Biedt een stabiele weerstand van 15-18,25MΩ*cm, lage TOC, nul bacteriën voor injectie, biologische producten en farmaceutische productie.
Automatisch regeneratie gemengd bed voor diepe zuivering van ketelvoedingswater
Automatische regeneratie gemengd bed voor diepe zuivering van ketelvoedingswater. Beschikt over automatische cyclusregeneratie, diepe verwijdering van hardheid en resterende zouten, stabiele wateropbrengst en industriële anti-corrosiestructuur. Ideaal voor industriële ketelruimtes en thermische energiecentrales.
Custom Industrial RO EDI Ultrazuiver water systeem Hoog zuiverheidsproduct Chemisch vrij gebruik
Op maat gemaakte industriële RO+EDI ultrapuur waterbehandelingsapparatuur combineert dubbeltraps RO-filtratie en EDI-elektrode-ionisatie om zeer zuiver gedeïoniseerd water (15-18,25MΩ*cm) te produceren. Beschikt over een chemicaliënvrije werking, intelligente PLC-besturing, volledig aanpasbare capaciteit (250 l/h-5000 l/h), op een skid gemonteerde structuur en stabiele prestaties voor industriële productie.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrazuiver water systeem Halvergeleiderchip Reiniging Chemische vrij continue werking
Industrieel EDI-systeem voor ultrapuur water produceert water met een weerstand van 18,25MΩ·cm voor het reinigen van halfgeleiderchips. Beschikt over chemicaliënvrije EDI-technologie, tweetraps RO met 99% ontzilting, PLC-automatisering en aanpasbare capaciteit tot 5000 l/u. Voldoet aan de SEMI-normen, inclusief UV-sterilisatie en 1 jaar garantie.
RO Postpolijst elektrodeioniseringssysteem EDI met chemisch vrije continue werking
Het RO Post Polishing EDI-systeem vervangt traditionele gemengde bedden door chemicaliënvrije continue werking, stabiele wateropbrengst met hoge zuiverheid en volledige onbeheerde automatisering. Beschikt over ISO 9001- en CE-certificeringen, compacte geïntegreerde structuur en ondersteunt aanpasbare stroom van 0,5-50 m³/u voor upgrades van industriële watersystemen.
Ionenwisselaar van hoge zuiverheid voor elektronisch werkplaatswater van ultrazuivere kwaliteit
De zeer zuivere ionenwisselaar met gemengd bed levert ultrapuur water van elektronische kwaliteit met een ontziltingspercentage van ≥99,8% en een weerstand van 15-18,2 MΩ*cm. Beschikt over polijsten met ultrahoge zuiverheid, stabiele waterkwaliteit, compact ontwerp en perfecte RO-systeemintegratie voor halfgeleider-, printplaat- en precisie-elektronische productie.
Industriële grote stroom hoogzuiver water systeem 18,25 MΩ·Cm Voor het reinigen van elektronische chips
Industrieel ultrapuur watersysteem met groot debiet voor halfgeleiderfabrieken en de productie van elektronische chips. Beschikt over een tweetraps RO + EDI + polijst gemengd bedproces, waarbij 18,25MΩ*cm ultrapuur water wordt geproduceerd met TOC ≤1ppb. Aanpasbare stroom 10-100 m³/u, automatische PLC-besturing, 24 uur continu bedrijf. Voldoet aan de SEMI/ASTM-normen voor het reinigen, etsen en chipproductie van wafers.
