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ro water treatment system
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Système de dessalement en acier inoxydable 304 316 RO Contrôle PLC Rejet du sel pour le traitement industriel de l'eau
Équipement de dessalement RO en une seule étape pour le traitement de l'eau en circulation en usine. Comprend une construction en acier inoxydable, une automatisation PLC, un taux de récupération de 45 à 55 % et un rejet de sel ≥99 %. La conception compacte montée sur patins permet d'économiser de l'espace et de réduire la consommation d'eau.
Module photovoltaïque Système de purification de l'eau 18,2 MΩ·cm Deux étapes RO EDI Contrôle du processus PLC
Équipement d'eau ultrapure photovoltaïque avec une pureté de 18,2 MΩ·cm, processus de polissage RO + EDI + lit mixte en double étape. Comprend un contrôle par écran tactile PLC, un taux de dessalement ≥99 %, un débit de 80 m³/h et un contrôle spécialisé du silicium/bore/COT pour les processus de gravure, de texturation et de nettoyage des plaquettes de cellules solaires.
Produits pharmaceutiques stériles pour l'eau ultrapure Appareils de stérilisation UV Appareil de contrôle de faible TOC Conformité aux BPF
Équipement pharmaceutique à eau ultrapure stérile avec dispositif de stérilisation UV. Comprend un réservoir stérile de 316 L, une purification RO+EDI, une stérilisation UV, un nettoyage CIP et une conformité GMP/USP/EP. Fournit une résistivité stable de 15 à 18,25 MΩ*cm, un faible COT, zéro bactérie pour l'injection, les produits biologiques et la production pharmaceutique.
Lit mixte à régénération automatique pour purification en profondeur de l'eau d'alimentation de la chaudière
Lit mélangé à régénération automatique pour la purification en profondeur de l’eau d’alimentation de chaudière. Comprend une régénération automatique du cycle, une élimination en profondeur de la dureté et des sels résiduels, un débit d'eau stable et une structure anticorrosion industrielle. Idéal pour les chaufferies industrielles et les centrales thermiques.
Opération libre chimique de sortie de grande pureté industrielle faite sur commande de système d'eau de RO EDI
L'équipement industriel personnalisé de traitement de l'eau ultrapure RO+EDI combine une filtration RO en deux étapes et une électrodéionisation EDI pour produire de l'eau désionisée de haute pureté (15-18,25 MΩ*cm). Comprend un fonctionnement sans produits chimiques, un contrôle intelligent PLC, une capacité entièrement personnalisable (250 L/H-5 000 L/H), une structure montée sur patins et des performances stables pour la production industrielle.
18.25 MΩ·cm EDI Système d'eau ultrapure Système de puces semi-conducteurs Nettoyage continu sans produits chimiques
Le système d'eau ultrapure EDI industriel produit une eau de résistivité de 18,25 MΩ·cm pour le nettoyage des puces semi-conductrices. Doté d'une technologie EDI sans produits chimiques, d'une osmose inverse en deux étapes avec dessalement à 99 %, d'une automatisation PLC et d'une capacité personnalisable jusqu'à 5 000 L/H. Conforme aux normes SEMI, comprend la stérilisation UV et une garantie d'un an.
Système EDI d'électrodéionisation de post-polissage RO avec fonctionnement continu sans produits chimiques
Le système EDI de post-polissage RO remplace les lits mélangés traditionnels par un fonctionnement continu sans produits chimiques, un débit d'eau stable de haute pureté et une automatisation complète sans surveillance. Dispose des certifications ISO 9001 et CE, d'une structure intégrée compacte et prend en charge un débit personnalisable de 0,5 à 50 m³/h pour les mises à niveau du système d'eau industriel.
Échangeur d'ions de haute pureté pour l'eau ultrapure de qualité électronique
L'échangeur d'ions à lit mixte de haute pureté fournit de l'eau ultrapure de qualité électronique avec un taux de dessalement ≥ 99,8 % et une résistivité de 15 à 18,2 MΩ*cm. Comprend un polissage de très haute pureté, une qualité d'eau stable, une conception compacte et une intégration parfaite du système RO pour la fabrication de semi-conducteurs, de circuits imprimés et de composants électroniques de précision.
Système industriel d'eau de haute pureté à grand débit 18,25 MΩ·Cm Pour le nettoyage de puces électroniques
Système industriel d’eau ultrapure à grand débit pour les usines de semi-conducteurs et la fabrication de puces électroniques. Comprend un processus de lit mélangé RO + EDI + polissage en deux étapes, produisant 18,25 MΩ*cm d'eau ultra pure avec un COT ≤ 1 ppb. Débit personnalisable 10-100m³/h, contrôle automatisé PLC, fonctionnement continu 24h/24. Conforme aux normes SEMI/ASTM pour le nettoyage, la gravure et la production de plaquettes.
