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ro water treatment system
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Edelstahl 304 316 RO Entsalzungssystem PLC-Steuerung Salzabstoßung für die industrielle Wasserbehandlung
Einstufige Umkehrosmose-Entsalzungsanlage für die zirkulierende Wasseraufbereitung in Fabriken. Verfügt über eine Edelstahlkonstruktion, SPS-Automatisierung, eine Rückgewinnungsrate von 45–55 % und eine Salzrückhaltung von ≥99 %. Das kompakte, auf Kufen montierte Design spart Platz und reduziert den Wasserverbrauch.
Photovoltaikmodul Wasserreinigungssystem 18,2 MΩ·cm Zwei-Stufen-RO-EDI-Prozess-LKW-Steuerung
Photovoltaische Reinstwasseranlage mit 18,2 MΩ·cm Reinheit, zweistufiger RO + EDI + Mischbett-Polierprozess. Verfügt über eine SPS-Touchscreen-Steuerung, eine Entsalzungsrate von ≥99 %, eine Durchflussrate von 80 m³/h und eine spezielle Steuerung von Silizium/Bor/TOC für das Ätzen, Texturieren und Reinigen von Solarzellenwafern.
Pharmazeutische Sterile Ultrareine Wasseranlage UV-Sterilisationsvorrichtung Niedrige TOC-Kontrolle GMP-Konformität
Pharmazeutische sterile Reinstwasserausrüstung mit UV-Sterilisationsgerät. Verfügt über einen sterilen 316-L-Tank, RO+EDI-Reinigung, UV-Sterilisation, CIP-Reinigung und GMP/USP/EP-Konformität. Bietet einen stabilen spezifischen Widerstand von 15–18,25 MΩ*cm, einen niedrigen TOC und keine Bakterien für Injektionen, biologische Produkte und die pharmazeutische Produktion.
Automatisches Regenerations-Mischbett zur Tiefenreinigung des Kesselspeisewassers
Automatisches Regenerations-Mischbett zur Tiefenreinigung des Kesselspeisewassers. Verfügt über eine automatische Zyklusregeneration, eine gründliche Entfernung von Härte- und Restsalzen, eine stabile Wasserabgabe und eine industrielle Korrosionsschutzstruktur. Ideal für Industriekesselräume und Wärmekraftwerke.
Gewerblich angepasste RO EDI Ultrareines Wassersystem Hohe Reinheit Ausgang Chemikalienfreier Betrieb
Kundenspezifische industrielle RO+EDI-Reinstwasseraufbereitungsanlagen kombinieren zweistufige RO-Filtration und EDI-Elektroentionisierung, um hochreines entionisiertes Wasser (15–18,25 MΩ*cm) zu erzeugen. Verfügt über einen chemikalienfreien Betrieb, eine intelligente SPS-Steuerung, eine vollständig anpassbare Kapazität (250 l/h bis 5000 l/h), eine auf Kufen montierte Struktur und eine stabile Leistung für die industrielle Produktion.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb
Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.
RO EDI-System für die Elektrodeionisierung nach dem Polieren mit chemiefreiem Dauerbetrieb
Das RO Post Polishing EDI-System ersetzt herkömmliche Mischbetten durch einen chemikalienfreien Dauerbetrieb, eine stabile Ausgabe von hochreinem Wasser und eine vollständige unbeaufsichtigte Automatisierung. Verfügt über ISO 9001- und CE-Zertifizierungen, eine kompakte integrierte Struktur und unterstützt einen anpassbaren Durchfluss von 0,5–50 m³/h für industrielle Wassersystem-Upgrades.
Hochreines Ionenwechsler für Elektro-Werkstatt-Ultrareinwasser
Der hochreine Mischbett-Ionenaustauscher liefert hochreines Wasser in elektronischer Qualität mit einer Entsalzungsrate von ≥99,8 % und einem spezifischen Widerstand von 15–18,2 MΩ*cm. Bietet ultrahochreines Polieren, stabile Wasserqualität, kompaktes Design und perfekte RO-Systemintegration für die Halbleiter-, Leiterplatten- und Präzisionselektronikfertigung.
Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips
Industrielles Reinstwassersystem mit großem Durchfluss für Halbleiterfabriken und die Herstellung elektronischer Chips. Verfügt über einen zweistufigen RO + EDI + Polier-Mischbettprozess, der 18,25 MΩ*cm hochreines Wasser mit einem TOC ≤1 ppb erzeugt. Anpassbarer Durchfluss 10–100 m³/h, automatisierte SPS-Steuerung, 24-Stunden-Dauerbetrieb. Entspricht den SEMI/ASTM-Standards für Waferreinigung, Ätzen und Chipproduktion.
