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ro water treatment system
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Acero inoxidable 304 316 Sistema de desalinización RO Control PLC Rechazo de sal para tratamiento de aguas industriales
Equipo de desalinización por RO de una sola etapa para tratamiento de agua circulante en fábrica. Presenta una construcción de acero inoxidable, automatización PLC, tasa de recuperación del 45-55 % y rechazo de sal ≥99 %. El diseño compacto montado sobre patines ahorra espacio y reduce el consumo de agua.
Modulo fotovoltaico Sistema de purificación de agua 18.2 MΩ·cm Dos etapas RO EDI Control del proceso PLC
Equipo fotovoltaico de agua ultrapura con pureza de 18,2MΩ·cm, proceso de RO + EDI + pulido de lecho mixto de doble etapa. Cuenta con control de pantalla táctil PLC, tasa de desalinización ≥99 %, caudal de 80 m³/h y control especializado de silicio/boro/TOC para procesos de grabado, texturizado y limpieza de obleas de células solares.
Equipo farmacéutico para agua estéril ultrapura Dispositivo de esterilización UV Control de bajo TOC Cumplimiento de las normas GMP
Equipo farmacéutico de agua ultrapura estéril con dispositivo esterilizador UV. Cuenta con un tanque estéril de 316 L, purificación RO+EDI, esterilización UV, limpieza CIP y cumplimiento de GMP/USP/EP. Proporciona resistividad estable de 15-18,25 MΩ*cm, TOC bajo, cero bacterias para inyección, productos biológicos y producción farmacéutica.
Lecho mixto de regeneración automática para purificación profunda del agua de alimentación de calderas
Lecho Mixto de Regeneración Automática para la depuración profunda del agua de alimentación de calderas. Presenta regeneración de ciclo automático, eliminación profunda de dureza y sales residuales, salida de agua estable y estructura industrial anticorrosión. Ideal para salas de calderas industriales y centrales térmicas.
Sistema de agua ultrapura de alta pureza de salida sin productos químicos
El equipo industrial personalizado de tratamiento de agua ultrapura RO+EDI combina filtración RO de doble etapa y electrodosionización EDI para producir agua desionizada de alta pureza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta operación sin químicos, control inteligente PLC, capacidad totalmente personalizable (250L/H-5000L/H), estructura montada sobre patines y rendimiento estable para producción industrial.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua
El sistema de agua ultrapura EDI industrial produce agua con una resistividad de 18,25 MΩ·cm para la limpieza de chips semiconductores. Cuenta con tecnología EDI sin químicos, RO de dos etapas con 99 % de desalinización, automatización PLC y capacidad personalizable de hasta 5000 L/H. Cumple con los estándares SEMI, incluye esterilización UV y 1 año de garantía.
RO Sistema EDI de electrodeionización después del pulido con funcionamiento continuo libre de químicos
El sistema EDI de postpulido RO reemplaza los lechos mixtos tradicionales con un funcionamiento continuo sin productos químicos, una salida estable de agua de alta pureza y una automatización completa sin supervisión. Cuenta con certificaciones ISO 9001 y CE, estructura integrada compacta y admite un flujo personalizable de 0,5 a 50 m³/h para actualizaciones del sistema de agua industrial.
Intercambiador de iones de alta pureza para agua ultrapura de grado taller electrónico
El intercambiador de iones de lecho mixto de alta pureza ofrece agua ultrapura de calidad electrónica con una tasa de desalinización ≥99,8 % y una resistividad de 15-18,2 MΩ*cm. Presenta pulido de pureza ultra alta, calidad del agua estable, diseño compacto y perfecta integración del sistema RO para semiconductores, placas de circuito y fabricación electrónica de precisión.
Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos
Sistema industrial de agua ultrapura de gran caudal para fábricas de semiconductores y fabricación de chips electrónicos. Presenta un proceso de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas, que produce agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm con TOC ≤1 ppb. Caudal personalizable 10-100m³/h, control automatizado PLC, funcionamiento continuo 24h. Cumple con los estándares SEMI/ASTM para limpieza, grabado y producción de chips de obleas.
